El Congreso, organizado en sesiones de mañana y tarde, tiene por objeto abordar y dar respuestas a los actuales problemas de implantación de la tecnología iónica, de gran interés en los cada vez más reducidos circuitos de los dispositivos informáticos.
La implantación iónica es una tecnología utilizada, principalmente, para la fabricación de circuitos integrados como son los microprocesadores que se instalan en ordenadores, teléfonos móviles, videoconsolas y todo tipo de sistemas electrónicos. “Para fabricar estos circuitos electrónicos es necesario introducir iones de forma controlada en el silicio, que es el material base, y la principal técnica que se utiliza es ésta”, explica a DiCYT la profesora del Departamento de Electrónica de la Universidad de Valladolid Lourdes Pelaz, una de las organizadoras del XIX Congreso Internacional de Implantación de Tecnología Iónica que se celebra hasta el viernes 29 de junio en la Feria de Valladolid.
El Congreso, organizado en sesiones de mañana y tarde, tiene por objeto abordar y dar respuestas a los actuales problemas de implantación de la tecnología iónica, de gran interés en los cada vez más reducidos circuitos de los dispositivos informáticos. El evento abarca “desde aspectos fundamentales de lo que es la interacción entre los iones introducidos y el silicio u otros materiales que también se introducen, hasta el tipo de defectos que se forman por la implantación, cómo mejorar todo el proceso, la comprensión de la base científica a nivel de materiales o qué tipo de interacciones se producen entre estos átomos cargados eléctricamente y el silicio”, detalla Pelaz, quien añade que se tratará “tanto la parte más fundamental de la tecnología como aspectos muy aplicados como son los equipos que se utilizan para la implantación iónica”.
En la Universidad de Valladolid, el Grupo de Investigación Reconocido (GIR) de Electrónica, al que pertenece Lourdes Pelaz, trabaja en esta línea de investigación, en concreto en el modelado de procesos en semiconductores.
“Trabajamos en el modelado y simulación de las interacciones a nivel atómico que tienen lugar entre los iones introducidos, los defectos que estos iones producen en el material base cuando se introducen, y todo tipo de interacciones que tienen lugar después. Una vez que se han introducido los iones, es necesario recocer la muestra para activarlos y eliminar el dañado que se ha producido y nosotros modelamos todos estos procesos”, detalla.
El grupo de investigadores de la Universidad de Valladolid presentó su candidatura para acoger este congreso de carácter bianual en la cita celebrada hace dos años en Kioto (Japón). Según precisa la investigadora, “lo habitual es que vaya rotando entre Estados Unidos, Asia y Europa y hace dos años cuando se celebró en Kioto, presentamos la candidatura de Valladolid junto con varios grupos europeos”.
Concretamente el consorcio que organiza este congreso está formado, además de por varios miembros del departamento de Electrónica de la Universidad de Valladolid., por Ray Duffy (del Tyndall National Institute, en Irlanda), Frank Torregrosa (del Ion Beam Services, en Francia) y Konstantin Bourdelle (del Soitec, también Francia).
Cerca de 220 investigadores
Lourdes Pelaz avanza que unos 220 investigadores se han inscrito en el Congreso, de los cuales “aproximadamente la mitad proceden de distintos países europeos, y la otra mitad casi a partes iguales de Estados Unidos y Asia”. Asimismo, cerca de 50 personas han participado en el curso previo a la celebración del Congreso que tuvo lugar la semana pasada.
Finalmente, en esta XIX edición del Congreso se han dado cita los investigadores de universidades, centros de investigación y empresas más relevantes especializados en la tecnología de implantación iónica utilizada para la fabricación de circuitos integrados.
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